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制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD)  8486302200

申报实例汇总

商品编码 商品名称
8486302200 高透导电膜5层成膜装置
8486302200 高透导电膜1层成膜装置
8486302200 阵列磁控溅射机
8486302200 镀膜机/制造平板显示器专用
8486302200 金属溅镀沉积设备
8486302200 蒸镀机
8486302200 蒸发装置
8486302200 磁控溅射镀膜设备
8486302200 磁控溅射设备
8486302200 真空镀膜设备
8486302200 电子束蒸发装置
8486302200 物理气相沉积装置(铟锡氧化物)
8486302200 物理气相沉积装置
8486302200 溅射机
8486302200 氧化物物理气象沉积机
8486302200 旧PVD真空镀膜机
8486302200 多靶磁控溅射镀膜系统;将靶材上的材料均匀沉积到器件上;利用等离子体溅射原理,用于半导体器件;丹顿
8486302200 制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD)
8486302200 制造平板显示器物理气相沉积装置