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制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 8486204100
申报实例汇总
| 商品编码 | 商品名称 |
|---|---|
| 8486204100 | 金属蚀刻机/LAM牌 |
| 8486204100 | 金属蚀刻机 |
| 8486204100 | 金属层刻蚀机(旧) |
| 8486204100 | 金属刻蚀机（旧） |
| 8486204100 | 酸性蚀刻自动添加系统 |
| 8486204100 | 蚀刻设备(旧) |
| 8486204100 | 蚀刻设备 |
| 8486204100 | 蚀刻机 |
| 8486204100 | 线路板雕刻机 |
| 8486204100 | 线路板制作机 |
| 8486204100 | 等离子蚀刻机（旧） |
| 8486204100 | 等离子蚀刻机 |
| 8486204100 | 等离子清洗机(成套设备) |
| 8486204100 | 等离子清洗机 |
| 8486204100 | 等离子干法可刻蚀机 |
| 8486204100 | 等离子干法去胶机(旧) |
| 8486204100 | 等离子干法刻蚀设备 |
| 8486204100 | 等离子干法刻蚀机 |
| 8486204100 | 等离子去胶机(旧) |
| 8486204100 | 等离子刻蚀设备(旧) |
| 8486204100 | 等离子刻蚀机（干法刻蚀） |
| 8486204100 | 等离子刻蚀机(志圣牌) |
| 8486204100 | 等离子刻蚀机 |
| 8486204100 | 等离子体干法刻蚀机 |
| 8486204100 | 等离子体刻蚀系统 |
| 8486204100 | 等离子体刻蚀机 |
| 8486204100 | 离子刻蚀微调机 |
| 8486204100 | 碱性蚀刻生产线 |
| 8486204100 | 电浆清洗机 |
| 8486204100 | 电浆处理设备 |
| 8486204100 | 深槽刻蚀机/LAM |
| 8486204100 | 深干法硅微结构离子刻蚀机 |
| 8486204100 | 深反刻蚀机 |
| 8486204100 | 水平调整支撑 |
| 8486204100 | 水平调整器 |
| 8486204100 | 氧化物蚀刻机 |
| 8486204100 | 气浮导轨 |
| 8486204100 | 校直块 |
| 8486204100 | 旧干式蚀刻机 |
| 8486204100 | 感应耦合等离子刻蚀机(不含外 |
| 8486204100 | 感应耦合等离子体干法蚀刻机（旧，2010年制) |
| 8486204100 | 感应耦合等离子体刻蚀系统 |
| 8486204100 | 微调机 |
| 8486204100 | 干法蚀刻设备 |
| 8486204100 | 干法蚀刻装置 |
| 8486204100 | 干法蚀刻机 |
| 8486204100 | 干法去胶机（旧） |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)98年产,已使用20年,还可用8年 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)05年产,已使用13年,还可用12年 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)00年产,已使用18年,还可用7年 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)00年产,已使用18年,还可用10年 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧)/使被刻蚀材料表面形成特定图案 |
| 8486204100 | 干法刻蚀机(旧) |
| 8486204100 | 干法刻蚀机 |
| 8486204100 | 干式蚀刻机 |
| 8486204100 | 干式刻蚀机（旧） |
| 8486204100 | 干式刻蚀机 |
| 8486204100 | 干式光阻去除机/Mattson牌 |
| 8486204100 | 干式光阻去除机 |
| 8486204100 | 多晶硅蚀刻机/AMATC牌/用于晶圆生产蚀刻工艺 |
| 8486204100 | 多晶硅蚀刻机 |
| 8486204100 | 反应离子刻蚀机 |
| 8486204100 | 反应离子刻蚀制绒机 |
| 8486204100 | 双面碱性生产线 |
| 8486204100 | 半导体端泵激光标记机 |
| 8486204100 | 刻蚀机（旧） |
| 8486204100 | 刻蚀机(成套散件) |
| 8486204100 | 刻蚀机 |
| 8486204100 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 8486204100 | 二米蚀刻机 |
| 8486204100 | IC刻蚀机 |
| 8486204100 | (旧)等离子刻蚀机 |
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